石墨烯的許多性能,如導電、導熱、力學性能等,與其晶體結(jié)構(gòu)的完整性密切相關(guān);常規(guī)的基于氧化還原法的石墨烯制造技術(shù)在制備過程中會對石墨烯晶體結(jié)構(gòu)造成不可逆的破壞,而本研究提供的石墨烯制備方法可以在實現(xiàn)低成本大量制備的同時,最大程度的保持石墨烯的本征結(jié)構(gòu)和性能特征,為石墨烯的應用提供了材料基礎(chǔ)。作為原材料應用于石墨烯研究及應用,如導電、導熱涂層材料,腐蝕防護、復合材料等。
技術(shù)特點(含主要技術(shù)指標)
可實現(xiàn)本征態(tài)少層石墨烯的低成本大量制備,所得石墨烯層數(shù)以5-8層為主,石墨烯微片片徑以5-20μm為主,純度>98%,薄膜電導率>1000S/cm